含铼钼片的退火性能
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摘要:
具有低电阻率的栅极和连接材料的研究巳成为加快大型积成电路(LSI)技术进展的基础。难熔金属如Mo和W的深入研究产生了微型和高速仪器的制造技术。这些具有细颗粒的金属可制造高质量的仪
引用本文
Keiichiro,刘沙,赵连仲.含铼钼片的退火性能[J].稀有金属材料与工程,1984,(3).[.[J]. Rare Metal Materials and Engineering,1984,(3).]
DOI：[doi]
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