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U表面循环Ar^+轰击—磁控溅射离子镀Ti研究
中图分类号:

TG174.444


Ti Coatings on Uranium Substrates by Repeated Ar+ Bombardment - Magnetron Sputter Ion Plated
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鲜晓斌 刘柯钊 等. U表面循环Ar^+轰击—磁控溅射离子镀Ti研究[J].稀有金属材料与工程,2003,(1):67~69.[Xian Xiaobin, Liu Kezhao, Lu Xuechao, Zhang Yongbin. Ti Coatings on Uranium Substrates by Repeated Ar+ Bombardment - Magnetron Sputter Ion Plated[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2003,(1):67~69.]
DOI:[doi]

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  • 最后修改日期:2002-06-13