溅射气氛中O2／Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO2薄膜结构与亲水性的影响
作者:
中图分类号:
O647
基金项目:
湖北省自然科学基金资助项目 (2001abb077);教育部科学技术重点项目 (99087)
Effect of the Ratio of Oxygen to Argon and Thermal Treatment on the Structure and Hydrophilicity of TiO2 Thin Films Coated on Glass by DC Reactive Magnetron Sputtering
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摘要:
在工作气压为0．80Pa的氧氩气混合气氛下，改变氧与氩的流量比(O2／Ar：0．10，0．20，0．30)，在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D．C．)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射仪(XRD)分别研究了试样热处理前后的表面元素组成、离子状态和物相组成，用接触角分析仪测试了试样在紫外光(UV)照射后的水润湿角。
引用本文
赵青南 刘保顺 赵修建 A．W．Sleight.溅射气氛中O2／Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO2薄膜结构与亲水性的影响[J].稀有金属材料与工程,2003,(5):339~343.[Zhao Qingnan, Liu Baoshun, Zhao Xiujian, A. W. Sleight . Effect of the Ratio of Oxygen to Argon and Thermal Treatment on the Structure and Hydrophilicity of TiO2 Thin Films Coated on Glass by DC Reactive Magnetron Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2003,(5):339~343.]
DOI：[doi]
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- 最后修改日期:2002-10-10