O484.41
以Sm和Sm2S3为靶材，采用双靶子溅射系统，于单晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜，并采用XRD，AFM和RBS及光学性能测定等测试手段对薄膜进行了分析测试。结果表明：基板温度低于200℃的情况下；或者在基板温度为400℃，薄膜组成中Sm过量的条件下均可以直接获得在常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜。S-SmS和M-SmS微晶薄膜表现出明显不同的光学特性。
黄剑锋 曹丽云.双靶溅射法制作SmS光学薄膜[J].稀有金属材料与工程,2004,33(3):333~336.[Huang Jianfeng, Cao Liyun. Deposition of SmS Optical Thin Films by Double-Target Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(3):333~336.]DOI：[doi]