TG146.4
国家“863”高技术项目(2001AA338010)，国家自然科学基金重点资助项目(59931010)
马大衍 王昕 马胜利 徐可为.脉冲直流PCVD制备Ti-Si-N薄膜的电化学腐蚀行为[J].稀有金属材料与工程,2004,33(7):740~743.[Ma Dayan, Wang Xin, Ma Shengli, Xu Kewei. Electrochemical Corrosion of Ti-Si-N Films Coated by Pulsed-DC Plasma Enhanced CVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(7):740~743.]
DOI：[doi]