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溅射态原位加热NiTi形状记忆合金薄膜的结构性能研究
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TG146

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上海市应用材料研究与发展基金(0315)


Structure and Performance of NiTi Shape Memory Alloy Thin Films Sputter-Deposited by Situ Heating
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    研究了原位加热溅射的NiTi形状记忆合金薄膜的结构,讨论了制备工艺及织构对薄膜相变特征的影响,采用电阻法及X射线衍射分析了薄膜的结构及相变过程,确定了最适合于微器件的溅射工艺。结果发现:溅射时采用原位加热可直接获得具有织构的晶化薄膜,提高溅射功率将使薄膜的相变温度升高。

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引用本文

袁振宇 徐东 刘毓舒 蔡炳初.溅射态原位加热NiTi形状记忆合金薄膜的结构性能研究[J].稀有金属材料与工程,2006,35(11):1800~1802.[Yuan Zhenyu, Xu Dong, Liu Yushu, Cai Bingchu. Structure and Performance of NiTi Shape Memory Alloy Thin Films Sputter-Deposited by Situ Heating[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(11):1800~1802.]
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  • 收稿日期:2005-10-28
  • 最后修改日期:2005-10-28
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