溅射态原位加热NiTi形状记忆合金薄膜的结构性能研究
作者:
中图分类号:
TG146
基金项目:
上海市应用材料研究与发展基金（0315）
Structure and Performance of NiTi Shape Memory Alloy Thin Films Sputter-Deposited by Situ Heating
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摘要:
研究了原位加热溅射的NiTi形状记忆合金薄膜的结构，讨论了制备工艺及织构对薄膜相变特征的影响，采用电阻法及X射线衍射分析了薄膜的结构及相变过程，确定了最适合于微器件的溅射工艺。结果发现：溅射时采用原位加热可直接获得具有织构的晶化薄膜，提高溅射功率将使薄膜的相变温度升高。
引用本文
袁振宇 徐东 刘毓舒 蔡炳初.溅射态原位加热NiTi形状记忆合金薄膜的结构性能研究[J].稀有金属材料与工程,2006,35(11):1800~1802.[Yuan Zhenyu, Xu Dong, Liu Yushu, Cai Bingchu. Structure and Performance of NiTi Shape Memory Alloy Thin Films Sputter-Deposited by Situ Heating[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(11):1800~1802.]
DOI：[doi]
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- 收稿日期:2005-10-28
- 最后修改日期:2005-10-28