采用动态蒙特卡罗（kinetic Monte Carlo，简称KMC）方法研究物理气相沉积（physical vapor deposition，简称PVD）制备Ni薄膜过程中入射角度对薄膜微观结构的影响。该KMC模型中既包括入射原子与表面之间的碰撞，又包括被吸附原子的扩散。模拟中用动量机制确定被吸附原子在表面上的初始构型，用分子稳态（molecular statics，简称MS）计算方法计算扩散模型中跃迁原子的激活能。对于模拟结果，采用表面粗糙度和堆积密度作为沉积构型评价指标。研究结果表明：当沉积速率是5μm／min，基板温度是300K和500K时，表面粗糙度和堆积密度曲线在入射角度等于35°时出现拐点；入射角度小于35°时，入射角度增大对表面粗糙度增加和堆积密度减小的影响很少；但是入射角度大于35°时，随入射角度增大表面粗糙度迅速增加、堆积密度迅速减小。另外，当基板温度是300K时，入射角度对薄膜微观结构的影响程度大于基板温度为500K时的影响程度。说明高基板温度促使原子更加充分地扩散，从而能削弱自阴影效应的作用。但是，在保证足够高基板温度和合理沉积速率的情况下，入射角度过大同样不利于致密结构形成。