Influence of Substrate Temperature on the Microstructure of Sc and ScD2 Films

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Influence of Substrate Temperature on the Microstructure of Sc and ScD2 Films
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Science Foundation of China Academy of Engineering Physics (2010A0301011); National Natural Science Foundation of China (50871106)

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采用电子束沉积的方法在底衬Mo (Rq≈5~8.63 nm)上制备了厚度为2~3 μm的Sc膜，再将Sc膜在Sievert真空系统中进行吸氘。结果表明：在底衬温度为623, 823, 1023 K时，Sc膜呈现出柱状结构，且具有(002)的择优生长；随着沉积温度从623 K增大到1023 K，Sc膜的(002)择优生长变强，晶

Abstract:

Scandium films with thickness of ~ 2~3 μm were deposited on Mo substrates with a surface roughness Rq≈5~8.63 nm. Subsequently, the films were converted to scandium dideuteride (ScD2) in the Sievert’s apparatus. A novel substrate preparation process has

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吴清英,邴文增,龙兴贵,周晓松,刘锦华,罗顺忠. Influence of Substrate Temperature on the Microstructure of Sc and ScD2 Films[J].稀有金属材料与工程,2013,42(7):1342~1346.[Wu Qingying, Bing Wenzeng, Long Xinggui, Zhou Xiaosong, Liu Jinhua, Luo Shunzhong. Influence of Substrate Temperature on the Microstructure of Sc and ScD2 Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2013,42(7):1342~1346.]
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收稿日期:2012-07-25
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