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氮氧比对AlOxNy薄膜结构和光学性能的影响
DOI:
作者:
作者单位:

北京有色金属研究总院 能源材料与技术研究所,北京有色金属研究总院 能源材料与技术研究所,北京有色金属研究总院 能源材料与技术研究所,中国地质大学北京 工程技术学院,北京有色金属研究总院 能源材料与技术研究所

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TQ603. 1

基金项目:

太阳能吸收膜及平板集热器检测技术研究(2015BAA02B04)


Effect of nitrogen–oxygen ratio on structure and optical properties of AlOxNy films
Author:
Affiliation:

Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals,Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals,Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals,,Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals

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    摘要:

    本实验以单晶硅(111)和载玻片为基体,采用离子束辅助沉积技术沉积AlOxNy薄膜,使用XPS、XRD和椭偏仪研究了氮氧比对AlOxNy薄膜的成分、相结构和光学常数的影响。结果表明,随着氮氧比减小,薄膜中氮含量减小,氧含量增加;薄膜由非晶态转变为结晶态,结晶相为AlON。沉积薄膜的消光系数为零,呈现电介质特性。随着氮氧比减小,沉积薄膜的折射率减小。

    Abstract:

    The effect of nitrogen–oxygen ratio on composition, micro–structure and optical properties of AlOxNy films deposited by ion beam assisted deposition (IBAD) was investigated by using XPS, XRD and spectroscopic ellipsometry. As the ratio of nitrogen to oxygen decreases, the content of nitrogen in the films decreases, whereas, the content of oxygen in the films increases; at the same time, the amorphous phase in the films transfer to AlON phase. The zero value for extinction coefficient of the films indicates the deposited films are dielectric materials. And the refractive index of films within the whole wavelength range decreases with decreasing the ratio of nitrogen to oxygen.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

孟建平,杜淼,刘晓鹏,付志强,郝雷.氮氧比对AlOxNy薄膜结构和光学性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2018,47(3):972~975.[Jian–ping Meng, Miao Du, Xiao–peng Liu, Zhi–qiang Fu, Lei Hao. Effect of nitrogen–oxygen ratio on structure and optical properties of AlOxNy films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2018,47(3):972~975.]
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  • 收稿日期:2016-01-15
  • 最后修改日期:2016-05-24
  • 录用日期:2016-06-12
  • 在线发布日期: 2018-04-11
  • 出版日期: