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基体温度和氮分压对(Ti,Al)N涂层性能的影响
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TG178

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Effect of Substrate Temperature and Nitrogen Flow Rate on (Ti, Al) N Coating Properties
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    运用PVD工艺在M2高速钢表面沉积了(TiAl)N涂层,用SEM、TEM和XRD方法对涂层显微组织和结构进行了分析研究,并对涂层的性能进行测试。结果表明,涂层的显微硬度和耐磨性随涂镀时基体温度上升而提高,在TS=480℃时涂镀效果较佳;也随涂镀时的氮流量有关系,当Nf=12ml.min-1时,Hv可达2400。

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引用本文

王永康 程祥宇.基体温度和氮分压对(Ti, Al)N涂层性能的影响[J].稀有金属材料与工程,1994,(3):55~58.[Wang Yongkang, Cheng Xiangyu, Wang Weiming, Gu Xiaohong, Li Bingsheng. Effect of Substrate Temperature and Nitrogen Flow Rate on (Ti, Al) N Coating Properties[J]. Rare Metal Materials and Engineering,1994,(3):55~58.]
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