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低能离子束轰击对Ti和Ti—N膜组织与性能的影响
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TG174.444

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广东省高教厅基金项目 (970 0 3 2 )


The Influence of Low-Energy Ion Beams Bombardment on Microstructure and Properties of Ti and Ti-N Films
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    摘要:

    研究了用能量为3.0keV-4.0keV,束流为80mA-200mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti-N膜层辅助沉积作用。结果表明:用低能氮离子束对Ti膜进行轰击可以形成Ti2N相,在(204)晶面出现一定的择优取向,并对Ti膜层有一定的强化作用;在低能氮离子束对真空电弧辅助沉积过程中,膜层表现为较高的显微硬度;随低能离子束能量的增大,真空电弧沉积膜层中Ti2N相增多,在(002)晶面出现择优取向,膜层晶粒有粗化的趋势,但显微硬度却增加,这与Hall-Petch公式不符。

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引用本文

曾鹏 胡社军 等.低能离子束轰击对Ti和Ti—N膜组织与性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2002,(3):175~178.[Zeng Peng, Hu Shejun, Xie Guangrong, Huang Nacan, Wu Qibai. The Influence of Low-Energy Ion Beams Bombardment on Microstructure and Properties of Ti and Ti-N Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2002,(3):175~178.]
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  • 最后修改日期:2000-11-24
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