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N^+离子注入TiNi形状记忆合金的微观表面分析
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TG139.6 TG174.444

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国家自然科学基金资助项目(10175042)


Micro- analysis of N+ Ion- implanted TiNi Shape Memory Alloy
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    对TiNi形状记忆合金N+离子注入后进行了XRD分析以及XPS分析.N+离子注入的能量为75keV,束流为16.3μA/cm2,注量分别为3×1017N+cm-2和8×1017N+cm-2,注入过程中温度低于200℃.XRD和XPS分析结果都表明N+离子注入试样后以TiN的形式存在;且由于离子注入时的真空度较低,在注入层的表面也形成了少量的TiO2;由于Ni的溅射系数比Ti的大,在试样XPS宽程扫描图中,没有出现Ni的信号.

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引用本文

封向东,王治国,祖小涛,戴晶怡. N^+离子注入TiNi形状记忆合金的微观表面分析[J].稀有金属材料与工程,2003,(4):309~312.[Feng Xiangdong, Wang Zhiguo, Zu Xiaotao, Dai Jinyi . Micro- analysis of N+ Ion- implanted TiNi Shape Memory Alloy[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2003,(4):309~312.]
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  • 最后修改日期:2001-07-13
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