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钛表面沉积Fe-Pd磁性薄膜的研究
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TG146.23

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国家自然基金课题(30470486/C010515)


The Diffusion Mechanism of Fe-Pd Films Deposited on TA1
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    摘要:

    采用电弧离子镀设备,以高纯Fe靶和Pd靶为原料,在TA1工业纯钛表面先后沉积Fe,Pd2层单金属薄膜。对样品分别进行700℃~1100℃,保温0.5h~3h的真空退火处理,使Fe膜和Pd膜之间形成扩散层,制备FePd磁性膜。重点研究了Fe,Pd及钛衬底之间的百扩散机制,膜层结构,薄膜的相组成。结果表明:在700℃,0.5h处理后FePd薄膜的合金化较好:在900℃,1h处理后虽有FePd相形成,但基体中的Ti已经扩散至表面:温度高于900℃且保温时间长于1h处理,不利于FePd膜的形成。

    Abstract:

    参考文献
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    引证文献
引用本文

马波 王克光 李争显 周廉 程何祥.钛表面沉积Fe-Pd磁性薄膜的研究[J].稀有金属材料与工程,2005,34(8):1341~1344.[Ma Bo;Wang KeGuang;Li ZhengXian;Zhou Lian;Cheng HeXiang. The Diffusion Mechanism of Fe-Pd Films Deposited on TA1[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(8):1341~1344.]
DOI:[doi]

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  • 收稿日期:2003-12-08
  • 最后修改日期:2005-04-20
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