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紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征
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O647

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863项目(2002AA335030)


Structure and UV-Shielding Properties of TiO2-CeO2 Films Deposited on Soda-Lime Silicate Glass Substrates by R.F. Magnetron Sputtering
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    制备了摩尔比为1:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材。采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜。溅射过程中,工作气压保持在1.8Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)~220℃之间变化。用x射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率。结果表明,薄膜表面结构平滑、致密,呈微小晶粒结构,薄膜中Ti和Ce仅以Ti^4+和Ce^4+的形式存在;随着基片温度升高,薄膜中的细小晶粒略有长大;TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线。

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引用本文

赵青南 倪佳苗 张乃芝 赵修建 姜宏 王桂荣.紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征[J].稀有金属材料与工程,2006,35(1):142~145.[Zhao Qingnan, Ni Jiamiao, Zhang Naizhi, Zhao Xiujian, Jiang Hong, Wang Guirong. Structure and UV-Shielding Properties of TiO2-CeO2 Films Deposited on Soda-Lime Silicate Glass Substrates by R. F. Magnetron Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(1):142~145.]
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  • 收稿日期:2004-05-31
  • 最后修改日期:2005-02-20
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