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ITO薄膜的微观组织结构与光电性能研究
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TB43

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国家高技术研究发展计划(“863”计划)基金资助项目(2004AA303542)


Microstructure and Photoelectric Properties of ITO Thin Films
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    以金属铟和结晶四氯化锡为原料,采用溶胶.凝胶工艺,用浸渍提拉法在石英玻璃基体上制备ITO透明导电薄膜。采用XRD,AFM,四探针电阻率仪,紫外分光光度计对薄膜的晶型结构,表面形貌,方电阻和透光率进行了测定和分析,研究了热处理温度和提拉层数对薄膜光电性能的影响。结果表明:随着热处理温度的升高,薄膜的方电阻显著降低,透光率也不断增大,但是当后处理温度大于750℃时,透光率略有降低,方电阻仍然降低。

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引用本文

曾胜男 刘家祥 张楠. ITO薄膜的微观组织结构与光电性能研究[J].稀有金属材料与工程,2007,36(10):1861~1864.[Zeng Shengnan, Liu Jiaxiang, Zhang Nan. Microstructure and Photoelectric Properties of ITO Thin Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(10):1861~1864.]
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  • 最后修改日期:2006-09-27
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