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制备工艺及参数对TbCo薄膜垂直磁各向异性能的影响
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O484.43

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湖北省自然科学基金资助项目(2005ABA041)


Influence of Processing and Parameters on the Perpendicular Magnetic Anisotropy Energy of TbCo Films
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    摘要:

    采用射频磁控溅射法制备了TbCo非晶垂直磁化膜,并就制备工艺及参数对其磁各向异性能的影响进行了研究。结果表明:磁性层组分、溅射气压、基片偏压以及后退火温度对TbCo非晶垂直磁化膜的磁各向异性能都有不同程度的影响。当Tb含量为30%左右,或溅射气压为0.53Pa时,TbCo薄膜的磁各向异性能Ku会呈现极大值。基片偏压超过-60V以后,TbCo薄膜虬值开始显著上升,但超过-120V以后,Ku值开始趋向饱和。200℃以上真空退火会使TbCo薄膜磁各向异性能凰值明显下降。产生这些现象的原因与薄膜微观结构的改变有关。

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引用本文

黄致新,章平,张玉龙,王辉,吴斌,张锋,李佐宜.制备工艺及参数对TbCo薄膜垂直磁各向异性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2007,36(11):1947~1950.[. Influence of Processing and Parameters on the Perpendicular Magnetic Anisotropy Energy of TbCo Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(11):1947~1950.]
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  • 最后修改日期:2007-01-18
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