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压强对磁控溅射沉积铌膜耐磨和耐蚀性的影响
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TG146

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国家自然科学基金 , 教育部跨世纪优秀人才培养计划


Effect of Sputtering Gas Pressure on Wear Resistance and Corrosion Resistance of Niobium Films Prepared by Magnetron Sputtering Deposition
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    摘要:

    采用直流磁控溅射在钢基体上制备了铌薄膜,分别采用扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、球盘式摩擦磨损实验机和电化学分析仪研究了不同溅射气压下铌膜表面形貌、相结构、耐磨性以及耐蚀性.结果表明:低压强下,晶粒细小,膜层平滑,晶粒择优取向为(110)晶面;压强升高使得晶粒粗大,粗糙度明显提高,择优取向转变为(211)晶面.较高的和较低的溅射压强对耐磨性和耐蚀性的提高较大,适中的压强对铌膜的性能提高反而较小,这可能是由于表面缺陷和组织结构的不同造成的.

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引用本文

崔江涛,田修波,胡新东,杨士勤.压强对磁控溅射沉积铌膜耐磨和耐蚀性的影响[J].稀有金属材料与工程,2008,37(1):143~146.[Cui Jiangtao, Tian Xiubo, Hu Xindong, Yang Shiqin. Effect of Sputtering Gas Pressure on Wear Resistance and Corrosion Resistance of Niobium Films Prepared by Magnetron Sputtering Deposition[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2008,37(1):143~146.]
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  • 收稿日期:2007-01-25
  • 最后修改日期:2007-01-25
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