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金属薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系
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TB43

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国家自然科学基金


Relationship between Resistivity of Metallic Film and Its Surface Roughness,Residual Stress
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    针对磁控溅射Au金属薄膜,从实验角度研究了该薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系,并对结果进行了分析.结果表明:薄膜电阻率随着表面粗糙度及残余应力的增加而增大.分析认为,晶体取向可能在金属薄膜力学性能和功能性之间有某种联系,并从应变能角度给予了解释.该结果为进一步探讨薄膜力学性能和功能特性的内在关系提供了研究基础.

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引用本文

唐武,邓龙江,徐可为.金属薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系[J].稀有金属材料与工程,2008,37(4):617~620.[Jian Lu, Tang Wu, Deng Longjiang, Xu Kewei, Jian Lu. Relationship between Resistivity of Metallic Film and Its Surface Roughness, Residual Stress[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2008,37(4):617~620.]
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  • 最后修改日期:2007-03-28
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