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NbF5前驱体化学气相沉积铌涂层的生长动力学
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北京理工大学,北京理工大学,北京理工大学,北京理工大学,中国航天员科研与训练中心

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通讯作者:

中图分类号:

TG146.4+16

基金项目:

国家自然科学基金(51071099; 51171101);上海市教委科研创新基金(13YZ015)


Growth kinetics of niobium coating prepared by CVD from NbF5
Author:
Affiliation:

Beijing Institute of Technology,Beijing Institute of Technology,Beijing Institute of Technology,Beijing Institute of Technology,China Astronaut Research and Training Center

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    摘要:

    采用常压化学气相沉积方法在1150℃下成功制备了组织致密的金属铌涂层,沉积速率达到了250μm/h。通过对沉积后沿进气方向涂层厚度分析,确定了不同位置NbF5、H2、HF及Ar的摩尔百分比,对数据进行拟合获得了与实验结果吻合较好生长动力学方程。进一步分析动力学方程可知副产物HF对于沉积速率影响较大而Ar几乎没有影响。

    Abstract:

    :Dense niobium coating was successfully prepared by atmospheric pressure chemical vapor deposition(CVD) method at 1150,which reached 250μm / h deposition rate. Analysis the post-deposition coating thickness by the gas flow direction,the mole percentage of NbF5, H2, HF and Arin different positionsweredetermined. And got agrowthkinetics equation which agrees well with the experimental results . Further analysis of the kinetic equations showed that the byproduct HF has a greater impact on deposition rate and Ar almost no effect.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

郑明珉,谭成文,于晓东,李颖,马红磊. NbF5前驱体化学气相沉积铌涂层的生长动力学[J].稀有金属材料与工程,2018,47(1):187~190.[Zheng Mingmin, Tan Chengwen, Yu Xiaodong, Li Ying, Ma Honglei. Growth kinetics of niobium coating prepared by CVD from NbF5[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2018,47(1):187~190.]
DOI:[doi]

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  • 收稿日期:2015-11-11
  • 最后修改日期:2016-05-17
  • 录用日期:2016-06-12
  • 在线发布日期: 2018-02-07
  • 出版日期: