溅射法应用于半导体、液晶显示器、硬盘、光盘等记录器件及其它各种领域。就溅射材(以下称为靶材)、溅射气体、装置的材质而论,可以说几乎包括了周期表中所有元素。其中用作靶材的有纯金属、合金、氧化物、氮化物、金属间化合物以及它们的复合物等,种类相当多。作为靶材的共同点就是程度不同地要求不含目的元素以外的杂质,即要使用高纯物质。用粉末冶金制取的靶材,不希望添加烧结助剂,即使在要求耐